超(chao)快激光三維微(wei)納制造系統

型號(hao)：Quantum X shape

廠商：Nanoscribe Inc.

設備性能：

（1）配(pei)備有雙(shuang)光(guang)子灰度光(guang)刻技術，光(guang)斑調(diao)節速率高達1MHz，加工(gong)范圍(wei)大于：20×20 ×20mm3；速度大于：5 mm/s；

（2）63倍光學辨率(lv):形狀精度 ≤200 nm；

（3）加(jia)工結構表面粗糙度：≤10 nm；

（4）批量(liang)加工：200個典型(xing)的介觀尺度結構可在12小時完成加工；

（5）激(ji)光：780 nm；平均功(gong)率250 mW；

（6）加工方式：正置(zhi)；襯底：玻璃，硅(gui)片

設備功(gong)能(neng)：

 面向微(wei)納米(mi)工程(cheng)、固(gu)體(ti)(ti)量子(zi)、集成光(guang)子(zi)、生物醫學工程(cheng)等領(ling)域對(dui)跨尺(chi)度、高精(jing)度器件的需求，基于雙光(guang)子(zi)聚合效(xiao)應(ying)，實(shi)現具備(bei)納米(mi)精(jing)度的、厘米(mi)級三維微(wei)納功能結構(gou)的制備(bei)。