主要功(gong)能：
冷場掃描電鏡可進行微納米結構和材料的形貌成像和成份高分辨表征。Mild Flash技術大
幅提升電子束流的穩定性。電子束配合圖形發生器和束閘，還可以進行電子束光刻。
技(ji)術指標：
放大倍數： 低倍率模式20~2,000X；
高倍率模式100~1,000,000X;
加速電壓： 0.5~30kV；
減速模式0.01~2kV
5軸馬達臺： XY移動范圍50nm，旋轉360°，傾斜-5°～70°
探頭： BSE (LA,HA), SE(U,L),STEM(BF)
樣(yang)品交換倉： 可以放置4英寸晶圓
分辨率 ： 0.8nm(15kVVacc ,WD4mm, 27萬倍(bei))